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日本高絲kose Clear Turn Premium清新面膜 濃潤

NT$ 299.00
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尺寸:3次
物料/原料名稱/成分:水,BG,DPG,PPG-10甲基葡萄糖,甘油,李子果提取物,石榴皮提取物,白水母提取物,西瓜胞外多醣,Someyoshino葉提取物,透明質酸Na,EDTA-2Na,PEG-8((丙烯酸酯,丙烯酸烷基酯(C10-30))共聚物,PEG-50氫化蓖麻油異硬脂酸酯,卡波姆,雙甘油,三乙基己酸,氫氧化鈉,碳酸二烷基酯(C14、15),苯氧乙醇
原產國:日本
評論:一種無空氣的製造方法,即“自由添加的純淨面膜”,可為皮膚提供活潑的水分。 易於在白天對外部壓力敏感的皮膚上使用。 適用於濕潤和超濕潤的皮膚。

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